◆ 儀器簡(jiǎn)介：
RST599電化學(xué)工作站是一臺(tái)通用電化學(xué)儀器，硬件技術(shù)指標(biāo)與RST5200相同。
該儀器硬件集成了線掃、脈沖、階躍、溶出、阻抗譜、充放電、高頻電鍍等電化學(xué)控制與測(cè)量技術(shù)；軟件采用中文界面、Window風(fēng)格、快捷的菜單及設(shè)置、強(qiáng)大的圖形操作功能，易學(xué)易用。

◆ 儀器亮點(diǎn)：
更大的激勵(lì)電流及測(cè)量量程，提供電池及大面積電極體系應(yīng)用。
更寬的電位掃描范圍（±12.8V），用于有機(jī)、鈍化、超電容等測(cè)量。
更好的測(cè)量精度、分辨率及抗干擾能力，滿足痕量組分檢測(cè)及標(biāo)定。
更高的激勵(lì)及采集速率（10Msps），適應(yīng)高速掃描及高頻交流阻抗的需要。
更豐富的圖形量測(cè)技術(shù)和輔助數(shù)學(xué)工具，地減輕實(shí)驗(yàn)操作者工作強(qiáng)度。
更有效的保護(hù)（極性、電壓、電流、時(shí)間、鏈路），安全進(jìn)行儲(chǔ)能電化學(xué)實(shí)驗(yàn)。
更友好的操作界面、智能檢查、頁面相關(guān)幫助，初學(xué)者無說明書也可順利操作。

◆應(yīng)用范圍：
電化學(xué)教學(xué) 電化學(xué)分析
電化學(xué)合成 痕量元素檢測(cè)
電鍍工藝開發(fā) 電池材料研究
環(huán)境保護(hù)監(jiān)測(cè) 納米材料研制
電解、冶金、制藥 生物電化學(xué)傳感器
電化學(xué)腐蝕研究測(cè)量 超電容特性測(cè)試分析
電池化成及特性測(cè)試分析

◆電化學(xué)方法
線性掃描伏安法LSV 線性掃描溶出伏安法
線性掃描循環(huán)伏安法LCV 環(huán)形掃描
階梯伏安法SV 階梯溶出伏安法
階梯循環(huán)伏安法SCV 方波伏安法SWV
方波溶出伏安法 方波循環(huán)伏安法SWCV
差示脈沖伏安法DPV 差示脈沖溶出伏安法
常規(guī)脈沖伏安法NPV 差示常規(guī)脈沖伏安法DNPV
單電位階躍計(jì)時(shí)電流法 單電位階躍計(jì)時(shí)電量法
多電位階躍計(jì)時(shí)電流法 多電位階躍計(jì)時(shí)電量法
恒電位電解I-T曲線 恒電位電解Q-T曲線
恒電位溶出I-T曲線 恒電位溶出Q-T曲線
開路電位E-T曲線 電位溶出E-T曲線
單電流階躍計(jì)時(shí)電位法 多電流階躍計(jì)時(shí)電位法
控制電流E-T曲線 交流伏安法
交流溶出伏安法 交流循環(huán)伏安法
塔菲爾圖Tafel 交流阻抗
電池恒流充電 電池恒流放電
電池恒流循環(huán)充放電 電池全容量分段充電
電池全容量分段放電 脈沖電鍍法
電鍍電位監(jiān)測(cè)

◆主要技術(shù)指標(biāo)：
儀器架構(gòu) 恒電位儀、恒電流儀、交流阻抗
CV小電位增量 0.0000125V
電位掃描范圍 ±12.8V
槽壓 ±15V
電位測(cè)量零位 自動(dòng)校正
電位更新速率 10MHz
參比電極輸入阻抗//電容 >1013Ω// <10pF
電位測(cè)量低通濾波器 自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置
電位上升時(shí)間 <0.000001S
掃描速度 0.000001V/S～20000V/S
大恒電流輸出 ±0.5A
電流測(cè)量分辨率 5fA
電流測(cè)量零位 自動(dòng)校正
電流測(cè)量量程 0.000000005A～0.5A（共24檔）
放大倍數(shù) 5×10×99
電流測(cè)量高靈敏度 1×10-12A/V
電流測(cè)量低通濾波器 自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置
輸入偏置電流 <5pA
脈沖寬度 0.00005S～64S
正弦波幅度 0.001V～3.2V
高速ADC 18bit@1Msps
阻抗譜頻率 0.00001Hz～139000Hz（共10個(gè)頻段）
電解池通氮攪拌控制輸出 二路開關(guān)量+5V/10mA
大數(shù)據(jù)長(zhǎng)度 990000點(diǎn)
儲(chǔ)能電化學(xué)測(cè)量保護(hù)模式 極性、電壓、電流、時(shí)間、鏈路
儀器尺寸 360×300×14(立方厘米)
儀器重量 8kg